真空鍍膜的設備需進行加熱才能工作,原來加熱方式采用電爐盤進行間接加熱,該加熱方式為外加熱方式,存在熱傳遞效率低、散熱快、加熱速度慢,導致能耗高、設備環境溫度高、設...[詳細]
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